Si₃N₄APPLICATION / 2026التطبيقات
تشكيل شبه نهائي لنتريد السيليكون المسامي بتقنية DIW
يجمع مسار بحثي بين DIW والتجفيف بالتجميد والترابط التفاعلي للحد من الانكماش الكلي إلى أقل من 1٪، ولا يزال استخدام الغرسات يتطلب تحققًا بيولوجيًا وتنظيميًا مستقلًا.
المدونة التقنية
التطبيقات والبحوث والممارسة الهندسية
مساحة لنشر دراسات تطبيقية ومراجعات علمية وأدلة عملية من KUNWU.
Si₃N₄APPLICATION / 2026
SiCRESEARCH / 2026أبحاث المواد
مسارات التصنيع الإضافي لكربيد السيليكون
تقارن مراجعة أدبية بين المسارات القائمة على المعلق والمسحوق والخيوط، وتوضح ضرورة إرفاق قيم القوة المعلنة بظروف التكثيف والاختبار.
Al₂O₃CASE / 2026تطبيقات الطباعة
لوح ألومينا مثقب دقيق مطبوع بتقنية DLP
تُظهر مصفوفة كثيفة وموحدة من الثقوب الدقيقة التحكم الرقمي بالفتحة والتباعد والتوزيع للترشيح وتوزيع الغاز وتقييم المفاعلات الدقيقة.