Si₃N₄APPLICATION / 2026Применения
Почти безусадочное формование пористого Si₃N₄ методом DIW
Исследовательский маршрут объединяет DIW, сублимационную сушку и реакционное связывание, ограничивая общую усадку менее 1%; для имплантационного применения необходима отдельная биологическая и регуляторная валидация.

